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蔡振章教授實驗室利用Cu (aminoSilane)22+,藉由離子拓印法,插層在介孔二氧化矽(MS)孔洞內部,形成二氧化矽柱可以改善MS水熱穩定性。該研究結果發表於Catalysis Today (2012)
連結http://dx.doi.org/10.1016/j.cattod.2012.08.029
檢視圖片蔡振章老師實驗室
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