無機材料實驗室

領域	無機化學
名稱	無機材料實驗室
位置	理學院617-1實驗室
參與教授	莊琇惠
設備	1.高溫鍛燒爐 2.微波反應器 3.旋轉塗佈機 4.真空反應器 5.微波高溫爐 6.固態UV 7.模擬太陽光反應器
研究方向	奈米金屬氧化物材料之研究與應用：具特殊形狀、結構、組成的材料往往具備優異的物理及化學特性。本研究室之研究方向即為發展具特殊性質的金屬氧化物之製備及其應用。從化學觀點出發，製備新型金屬氧化物材料，鑑定其組成和結構，並進一步將所製備出之材料應用於光降解、氣體感測、廢水處理等方面。半導體材料之研究: 半導體工業科技的進步使IC的製程不斷的往小尺寸推進，從早期的微米 (μm) 推進到現今的奈米 (nm)，在在都是人類的智慧結晶。但在元件尺寸不斷縮小的同時，許多的困難也就隨之的產生，因而需要更多的智慧去解決。本實驗室是從化學觀點出發，利用化學氣相沉積法或旋轉塗佈法或化學合成法，尋求並製備新前驅物和新材料，並進一步測試其性質，以應用在未來世代（< 70奈米）IC 奈米技術中的介電層和金屬阻障層。高介電常數材料的研究：為解決元件中二氧化矽閘極絕緣層厚度急遽下降所產生的嚴重問題：閘極與基版間直接穿遂的漏電流將大到無法被接受。解決此問題，可以利用高介電常數（>3.9 of SiO2）的絕緣層材料來當閘極絕緣層。

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