Lee-TY*, Lin-YJ, Yu-CY, Chang-JF,Well-Defined Diblock and Triblock Copolymers for KrF Lithography,J. Appl. Polym. Sci.,118,118,pp3245-3254 (SCI)

學年度	2010
期刊等級	SCI
論文名稱(篇名)	Well-Defined Diblock and Triblock Copolymers for KrF Lithography
期刊名	J. Appl. Polym. Sci.
卷數	118
期數	118
起頁	3245
迄頁	3254
全部作者	Lee-TY*, Lin-YJ, Yu-CY, Chang-JF

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