Lee-TY*, Lin-YJ, Yu-CY, Chang-JF,Well-Defined Diblock and Triblock Copolymers for KrF Lithography,J. Appl. Polym. Sci.,118,118,pp3245-3254 (SCI)
| 學年度 | 2010 |
|---|---|
| 期刊等級 | SCI |
| 論文名稱(篇名) | Well-Defined Diblock and Triblock Copolymers for KrF Lithography |
| 期刊名 | J. Appl. Polym. Sci. |
| 卷數 | 118 |
| 期數 | 118 |
| 起頁 | 3245 |
| 迄頁 | 3254 |
| 全部作者 | Lee-TY*, Lin-YJ, Yu-CY, Chang-JF |
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