學年度 | 2010 |
---|---|
期刊等級 | SCI |
論文名稱(篇名) | Photochemistry of photoresists and underlayer materials upon irradiation at 13.5nm |
期刊名 | J. Photochem. Photobiol. A: Chem |
卷數 | 211 |
期數 | 211 |
起頁 | 78 |
迄頁 | 87 |
全部作者 | G. H. Ho*, Yu-H. Shih, Fu-H. Kang, Jia-C. Hung, Chih-H. Shao, Yu-H. Lai |
著作人數 | 6 |
作者型態 | First Author |
使用語言 | 英文 |
所屬計畫案 | NSC 98-2120-M-009-007 and NSC98-2113-M-390-005 |