G. H. Ho*, Yu-H. Shih, Fu-H. Kang, Jia-C. Hung, Chih-H. Shao, Yu-H. Lai,Photochemistry of photoresists and underlayer materials upon irradiation at 13.5nm,J. Photochem. Photobiol. A: Chem,211,211,pp78-87 (SCI)
| 學年度 | 2010 |
|---|---|
| 期刊等級 | SCI |
| 論文名稱(篇名) | Photochemistry of photoresists and underlayer materials upon irradiation at 13.5nm |
| 期刊名 | J. Photochem. Photobiol. A: Chem |
| 卷數 | 211 |
| 期數 | 211 |
| 起頁 | 78 |
| 迄頁 | 87 |
| 全部作者 | G. H. Ho*, Yu-H. Shih, Fu-H. Kang, Jia-C. Hung, Chih-H. Shao, Yu-H. Lai |
| 著作人數 | 6 |
| 作者型態 | First Author |
| 使用語言 | 英文 |
| 所屬計畫案 | NSC 98-2120-M-009-007 and NSC98-2113-M-390-005 |
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