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  1. 首頁
  2. 課程資訊
  3. 學程說明
  4. 半導體光電製程學程

課程安排設計

現行兩年一輪『半導體光電製程學程』課程安排：
年 級
課程設計
可開課教師
大一基礎科學課程 普通物理及普通化學(必修，6學分) 各系課程教師
學程選課第一年上學期 半導體製程與設備概論(必選，3學分) 劉福鯤、鄭秀英﹑莊琇惠﹑王瑞琪(CM)
真空技術 (選修，3學分) 鄭秀英﹑呂正傑(CM，薄膜工程)
半導體元件物理與製程整合概論(選修，3學分) 陳宏任(EE)﹑傅昭銘(AP)﹑孫士傑(AP)﹑楊證富(CM)
薄膜製程(選修，3學分) 劉福鯤
學程選課第一年下學期 蝕刻製程(選修，2學分) 莊琇惠
材料分析(選修，3學分) 王瑞琪(CM﹐材料表面分析)、莊琇惠
擴散製程(選修，1學分) 外聘
學程選課第二年上學期 半導體製程與設備概論(必選，3學分) 劉福鯤、鄭秀英﹑莊琇惠﹑王瑞琪(CM)
半導體元件物理與製程整合概論(選修，3學分) 陳宏任(EE)﹑傅昭銘(AP)﹑孫士傑(AP)﹑楊證富(CM)
真空技術(選修，3學分) 呂正傑(CM，薄膜工程)、鄭秀英
學程選課第二年下學期 微影製程(選修，3學分) 鄭秀英
材料分析(選修，3學分) 莊琇惠、王瑞琪(CM,材料表面分析)
 
學程課程設計
半導體光電製程學程
至少21學分：必修6學分、跨領域產業與專業選修15學分
課程類別
組 別
半導體製程組
光電製程組
基礎科學必修課程
普通物理(3學分)、普通化學(3學分)
跨領域產業必選課程
1.半導體製程概論
2.半導體元件物理
1.半導體製程概論
2.近代光學或光學元件與材料
3.微影製程或蝕刻製程
專業選修課程
微影製程
半導體元件物理
蝕刻製程
有機電致發光二極體
薄膜製程
發光二極體特論與實驗
材料分析
太陽能光電
真空技術
平面顯示器概論
半導體封裝與趨勢
真空技術
發光二極體技術概論
近代光學或光學元件與材料
擴散製程
微影製程或蝕刻製程

 

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