課程安排設計
現行兩年一輪『半導體光電製程學程』課程安排：
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年 級
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課程設計
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可開課教師
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| 大一基礎科學課程 | 普通物理及普通化學(必修，6學分) | 各系課程教師 |
| 學程選課第一年上學期 | 半導體製程與設備概論(必選，3學分) | 劉福鯤、鄭秀英﹑莊琇惠﹑王瑞琪(CM) |
| 真空技術 (選修，3學分) | 鄭秀英﹑呂正傑(CM，薄膜工程) | |
| 半導體元件物理與製程整合概論(選修，3學分) | 陳宏任(EE)﹑傅昭銘(AP)﹑孫士傑(AP)﹑楊證富(CM) | |
| 薄膜製程(選修，3學分) | 劉福鯤 | |
| 學程選課第一年下學期 | 蝕刻製程(選修，2學分) | 莊琇惠 |
| 材料分析(選修，3學分) | 王瑞琪(CM﹐材料表面分析)、莊琇惠 | |
| 擴散製程(選修，1學分) | 外聘 | |
| 學程選課第二年上學期 | 半導體製程與設備概論(必選，3學分) | 劉福鯤、鄭秀英﹑莊琇惠﹑王瑞琪(CM) |
| 半導體元件物理與製程整合概論(選修，3學分) | 陳宏任(EE)﹑傅昭銘(AP)﹑孫士傑(AP)﹑楊證富(CM) | |
| 真空技術(選修，3學分) | 呂正傑(CM，薄膜工程)、鄭秀英 | |
| 學程選課第二年下學期 | 微影製程(選修，3學分) | 鄭秀英 |
| 材料分析(選修，3學分) | 莊琇惠、王瑞琪(CM,材料表面分析) |
學程課程設計
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半導體光電製程學程
至少21學分：必修6學分、跨領域產業與專業選修15學分
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課程類別
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組 別
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半導體製程組
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光電製程組
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基礎科學必修課程
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普通物理(3學分)、普通化學(3學分)
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| 必選課程 | 半導體製程概論 | |
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專業選修課程
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半導體微影製程
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半導體元件物理
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蝕刻製程
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有機電致發光二極體
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薄膜製程
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發光二極體特論與實驗
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材料分析
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太陽能光電
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真空技術
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平面顯示器概論
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半導體封裝與趨勢
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真空技術
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發光二極體技術概論
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半導體微影製程
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擴散製程
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蝕刻製程
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| 超大型積體電路設計導論 | 光學(I) | |
| 半導體元件物理 | ||
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