歷年課程設計

109學年度第二學期半導體光電製程專業課程及學分數
系所	課號	年級	課程名稱	學分	相等於學程課程(學分數)	修別	授課教師
AC	F733	4	半導體微影製程	3	微影製程(3)	選	鄭秀英

98學年度第二學期半導體製程專業課程及學分數
系所	課號	年級	課程名稱	學分	相等於學程課程(學分數)	修別	授課教師
CM	C551	3	材料表面分析	3	材料分析(3)	選	王瑞琪
AC	F637	4	擴散製程	1	擴散製程(1)	選	鄭秀英
AC	F671	4	薄膜製程	3	薄膜製程(3)	選	劉福鯤
CM	F601	4	半導體製程	3	半導體製程與設備概論(3)	選	王瑞琪
98學年度第一學期半導體製程專業課程及學分數
系所	課號	年級	課程名稱	學分	相等於學程課程(學分數)	修別	授課教師
EE	F041	4	半導體元件物理	3	半導體元件物理與製程整合概論(3)	選	藍文厚
AC	F711	4	半導體製程概論	3	半導體製程與設備概論(3)	選	劉福鯤
AP	F521	研一	半導體製程	3	半導體製程與設備概論(3)	選	黃建榮
AP	C631	3	真空技術	3	真空技術(2)	選	邱昭文
CM	F501	3	薄膜工程	3	真空技術(2)	選	呂正傑
AC	F672	3	蝕刻製程	2	蝕刻製程(2)	選	莊琇惠
AC	F681	3	薄膜工程	2	真空技術(2)	選	鄭秀英

97學年度第二學期半導體製程專業課程及學分數
系所	課號	年級	課程名稱	學分	相等於學程課程(學分數)	修別	授課教師
CM	C551	3	材料表面分析	3	材料分析(3)	選	王瑞琪
AC	F621	4	材料分析	3	材料分析(3)	選	莊琇惠
AC	F731	4	半導體微影製程概論	2	微影製程(2)	選	鄭秀英
CM	F601	4	半導體製程	3	半導體製程與設備概論(3)	選	王瑞琪
97學年度第一學期半導體製程專業課程及學分數
系所	課號	年級	課程名稱	學分	相等於學程課程(學分數)	修別	授課教師
EE	F992	4	半導體元件物理	3	半導體元件物理與製程整合概論(3)	選	藍文厚
AP	F521	4	半導體製程	3	半導體製程與設備概論(3)	選	黃建榮
AC	F711	4	半導體製程概論	3	半導體製程與設備概論(3)	選	鄭秀英
AC	F681	4	真空技術	2	真空技術 (2)	選	鄭秀英
CM	F501	3	薄膜工程	3	真空技術(2)	選	呂正傑
96學年度第二學期半導體製程專業課程及學分數
系所	課號	年級	課程名稱	學分	相等於學程課程(學分數)	修別	授課教師
CM	C551	3	材料表面分析	3	材料分析(3)	選	王瑞琪
AC	F672	4	蝕刻製程	2	蝕刻製程(2)	選	莊琇惠
AC	F673	4	擴散製程	1	擴散製程(1)	選	李志韋
CM	D561	4	半導體製程	3	半導體製程與設備概論(3)	選	王瑞琪
96學年度第一學期半導體製程專業課程及學分數
系所	課號	年級	課程名稱	學分	相等於學程課程(學分數)	修別	授課教師
AP	B541	3	半導體元件物理	3	半導體元件物理與製程整合概論(3)	選	蔡進譯
EE	F042	4	半導體元件物理(一)	3	半導體元件物理與製程整合概論(3)	選	陳宏任
AC	F711	4	半導體製程概論	3	半導體製程與設備概論(3)	選	鄭秀英
AC	F681	4	真空技術	2	真空技術 (2)	選	鄭秀英
CM	F501	3	薄膜工程	3	真空技術(2)	選	呂正傑
AC	F671	4	薄膜製程	3	薄膜製程(3)	選	劉福鯤
95學年度第二學期半導體製程專業課程及學分數
系所	課號	年級	課程名稱	學分	相等於學程課程(學分數)	修別	授課教師
AC	D511	4	半導體製程概論	3	半導體製程與設備概論(3)	選	劉福鯤
CM	D561	4	半導體製程	3	半導體製程與設備概論(3)	選	王瑞琪
AC	F621	4	材料分析	3	材料分析(3)	選	莊琇惠
CM	C551	3	材料表面分析	3	材料分析(3)	選	王瑞琪
AC	F731	4	半導體微影製程概論	3	微影製程(3)	選	鄭秀英
95學年度前預採半導體概論課程、半導體製程專業課程及學分數
系所	課號	年級	課程名稱	學分	預修學分認定(認定學分數)	修別	授課教師
AP	B541	3	半導體元件物理	3	半導體元件物理與製程整合概論(3)	選	孫士傑
CM	C581	3	半導體元件物理	3	半導體元件物理與製程整合概論(3)	選	楊證富
EE	F041	4	半導體元件物理	3	半導體元件物理與製程整合概論(3)	選	陳宏任
EE	C611	3	半導體元件物理	3	半導體元件物理與製程整合概論(3)	選	陳宏任
AC	D511	4	半導體製程概論	3	半導體製程與設備概論(3)	選	莊琇惠
AC	F521	4	奈米製程	3	半導體製程與設備概論(3)	選	劉福鯤
CM	C551	3	材料表面分析	3	材料分析(3)	選	陳文正
AC	D631	4	化學研究技術導論	2	真空技術 (2)	選	鄭秀英
CM	C621	3	薄膜工程	3	真空技術(2)	選	呂正傑
AC	D591	4	半導體微影製程概論	2	微影製程(2)

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